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国产光刻机温控技术突破 日竞控制新型专利曝光

2025-02-19 10:51:34      来源:中冶有色网      责任编辑:韩泽楷
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  2024年12月9日,国家知识产权局最新公开信息显示,安徽日竞控制技术有限公司于2024年8月申请的**“光刻机超静态精密温度供液控制系统”**(公开号CN119087749A)正式进入实质审查阶段。该专利瞄准光刻机热管理核心技术瓶颈,提出创新性解决方案。


技术架构与创新亮点

  1. 动态仿真模型构建

    • 建立蒸发循环制冷系统的全维度数字孪生模型,精准模拟**压缩机(双级变频设计)、蒸发器(微通道结构)、冷凝器(射流冷却技术)及膨胀阀(智能电子式)**等核心部件的动态特性,仿真精度达±0.05℃。
  2. 智能控制算法突破

    • 融合模糊PID控制与Smith预估器的智能算法架构,实现±0.001℃级温度稳定性控制,较传统PID算法响应时间缩短40%,超调量降低65%。
    • 集成深度学习模型,可自适应匹配DUV/EUV光刻机的差异化热负荷需求(范围覆盖5kW-35kW)。
  3. 跨系统协同优化

    • 开发传热特性分析模型,打通制冷系统与**精密加热模块(薄膜式纳米加热器)**的耦合控制,在1秒内完成10^4量级的热扰动补偿。

产业价值与实验数据

  • 良率提升:实验数据显示,系统可将曝光线宽误差控制在±1.5nm以内,显著提升28nm以下制程的良品率(实测提升12%-15%)。
  • 能耗优化:制冷系统COP值(能效比)达4.3,较现有方案节能22%,单台光刻机年节电超50万度。
  • 国产替代:该技术突破为国产浸没式光刻机的热管理模块提供了关键解决方案,有望应用于下一代EUV光刻机研发。

行业意义:此专利标志着我国在光刻机核心温控领域实现自主突破,相关技术参数已超越ASML Twinscan NXT系列光刻机的温控精度(±0.005℃),为国产半导体设备产业链补上关键一环。


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