上海华力集成电路制造申请改善通孔底部铜互连金属损伤专利

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2025-02-17 08:42:34 来源：中冶有色网责任编辑：韩泽楷

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金融界 2025 年 2 月 13 日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为 “改善通孔底部铜互连金属损伤的方法” 的专利，公开号 CN 119400753 A，申请日期为 2024 年 10 月。

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